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Wafer XRD

簡要描述：Wafer XRD
Panalytical X射線技術(shù)
用于全自動晶圓揀選、生產(chǎn)和質(zhì)量控制。

  • 更新時間：2024-11-18
  • 產(chǎn)品型號：
  • 訪  問  量：611

詳細介紹

Wafer XRD用于全自動晶圓揀選、生產(chǎn)和質(zhì)量控制


特點

  • 適用于3到8寸晶圓。也可根據(jù)要求提供其他尺寸

  • FOUP、載具或單個晶圓臺

  • 跨槽晶圓識別為可選功能

  • 易于集成到任何工藝生產(chǎn)線中

  • 測量速度：每個樣品＜10秒

  • 典型標準偏差（傾斜度）：例如Si 100＜0.003°

  • MES和SECS/GEM接口

  • 銅靶微焦點風冷X射線光管（**30W）或細焦點水冷X射線光管（**1.5kW）

  • 符合CE標準的安全控制裝置

  • 通過3色燈塔指示狀



材料

Si、SiC、GaAs、GaN、藍寶石（Al?O?）、Ge、AIN、石英、InP和100s等。


可選插件

  • 電阻率測量范圍：0.01至0.020Ωcm

  • 自動識別晶圓數(shù)據(jù)矩陣碼、二維碼、條形碼或類似代碼

  • 未拋光晶圓和鏡面的距離測量


Wafer XRD

年產(chǎn)1,000,000片晶圓




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